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결정에 정전 용량을 추가하면 (병렬) 공진 주파수가 감소합니다. 결정에 걸쳐 인덕턴스를 추가하면 (병렬) 공진 주파수가 증가합니다. 이러한 효과는 결정이 진동하는 주파수를 조정하는 데 사용할 수 있습니다. 크리스탈 제조업체는 일반적으로 결정에 추가된 알려진 “부하” 정전 용량으로 지정된 공진 주파수를 갖도록 결정을 잘라내고 다듬습니다. 예를 들어, 6pF 하중을 위한 크리스탈에는 6.0pF 커패시터가 배치될 때 지정된 병렬 공진 주파수가 있습니다. 부하 정전 용량이 없으면 공진 주파수가 더 높습니다. 다양한 비선형 결정 재료는 주파수 이중화, 파라메트릭 증폭 또는 광학 정류와 같은 비선형 주파수 변환 공정에 사용됩니다. 출력 전력 또는 전력 변환 효율과 같은 수량을 계산하기 위해 pm/V 단위로 효과적인 비선형 계수를 포함하는 방정식을 자주 사용합니다. 이 계수의 크기는 재료 특성과 상호 작용하는 광선의 편광 특성에 따라 달라집니다. 총 4개의 압전 계수, dij, eij, gij 및 hij가 다음과 같이 정의됩니다: 결정은 충격에 민감합니다. 기계적 응력은 결정의 응력 감도로 인해 발진기 주파수의 단기 적인 변화를 야기하고, 장착 및 내부 응력의 충격 유발 변화로 인한 주파수의 영구적 인 변화를 일으킬 수 있습니다 (탄성 한계의 경우 기계적 부품이 초과됨), 결정 표면의 오염 탈착 또는 발진기 회로의 매개 변수 변화. 충격의 높은 크기는 (특히 얇은 와이어에 매달려 큰 저주파 결정의 경우) 자신의 장착 떨어져 결정을 찢어 또는 결정의 균열을 일으킬 수 있습니다.

표면 결함이없는 결정은 매우 충격에 강하다; 화학 연마는 30MHz(최대 200MHz)를 초과하는 수만 g.[43] 크리스탈을 생존할 수 있는 결정을 생성할 수 있으며 일반적으로 임피던스가 최소로 나타나고 계열 저항과 동일한 계열 공명에서 작동합니다. 이러한 결정의 경우 병렬 정전 용량 대신 직렬 저항이 지정됩니다(<100 Ω). 더 높은 주파수에 도달하기 위해 결정은 기본 공진 주파수의 배수 근처에서 발생하는 배음 모드 중 하나에서 진동하도록 만들 수 있습니다. 홀수 배음만 사용됩니다. 이러한 결정은 3, 5, 또는 심지어 7 번째 배음 결정이라고합니다. 이를 위해 발진기 회로는 일반적으로 원하는 배음을 선택하는 추가 LC 회로를 포함한다. 압전 초음파 소스의 최근 응용 프로그램은 압전 수술, 일컬어 압전 수술입니다. [4] 압전 수술은 이웃 조직에 거의 손상으로 대상 조직을 절단하는 것을 목표로 최소 침습 기술이다.